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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0019260 (2009-03-06) |
공개번호 | 10-2010-0100392 (2010-09-15) |
등록번호 | 10-1067027-0000 (2011-09-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090019260 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-03-06) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체 조성물 및 음이온 중합에 의한 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상기 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체 조성물은 음이온 개시제, 극성용매, 헥사플루오로프로필렌 및 헥사플루오로프로필렌 옥사이드를 포함하고 있는 것을 그 특징으로 한다.또한, 상기 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체는 특정 반응 조건에서 상기 조성물을 이용하여 제조되는 것에 그 특징이 있다.상기 조성물과 제조방법으로 제조된 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체는 -10 ~ 20℃
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