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탄탈륨 광석으로부터 습식제련을 이용한 고순도 금속 화합물의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C22B-003/06
  • C22B-034/24
출원번호 10-2009-0026240 (2009-03-27)
공개번호 10-2010-0107897 (2010-10-06)
등록번호 10-1031985-0000 (2011-04-22)
DOI http://doi.org/10.8080/1020090026240
발명자 / 주소
  • 우상모 / 서울특별시 서초구 잠원동 **-**번지 신반포 **차APT ***동 ***호
  • 전덕일 / 서울특별시 강남구 도곡*동 도곡레슬APT ***동 ****호
  • 송규영 / 경기도 부천시 소사구 송내*동 ***-**번지 한미쉐마빌 **동 ***호
  • 구본우 / 인천광역시 남동구 간석*동 ***번지 현대APT ***동 ***호
출원인 / 주소
  • (주)나인디지트 / 인천광역시 남동구 논현동 ***-* 남동공단 ** 블럭 ** 롯트
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사청구여부 있음 (2009-03-27)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 탄탈륨 광석으로부터 탄탈륨 또는 니오븀을 분리 제조하는 방법 또는 고순도 K2TaF7, Ta2O5, 또는 Nb2O5 분말을 제조하는 방법에 관한 것으로, 특히 불산(HF)과 질산(HNO3)의 혼산을 이용한 광석의 침출과 Cyanex272와 TBP의 혼합용매에 의한 철(Fe)을 포함한 여러 비철금속류로부터 탄탈륨(Ta)과 니오븀(Nb)의 분리와 2-Octanol을 이용한 탄탈륨, 니오븀의 분리ㆍ정제를 특징으로 한다.본 발명은 탄탈륨 또는 니오븀 회수 및 재생에 있어서 산업용 폐기물인 스크랩에 한정되어 있는 출발원료를 광석으

대표청구항

탄탈륨 광석을 분쇄하고 선별하는 분쇄단계;선별된 분말을 HF + HNO3 로 침출하여 침출액과 잔사를 분리하는 침출단계;상기 침출액에 포함된 탄탈륨과 니오븀을 CYANEX272 +TBP 의 1차추출용매로 추출하는 1차 용매추출단계;상기 1차추출용매에 로딩된 탄탈륨과 니오븀을 탈취해 침전하고 이를 다시 산으로 용해하는 재용해단계;2-Octanol +케로신을 사용하여 상기 산 용액으로부터 탄탈륨이 포함된 2차추출용매와 니오븀이 포함된 추출잔액으로 분리하는 2차용매추출단계;로 구성되는 것을 특징으로 하는 탄탈륨 광석으로부터 습식제련을 이

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 탄탈륨 또는 탄탈륨/니오븀의 회수 방법 | 김태엽, 구본우
  2. [한국] 탄탈륨의 회수 방법 | 김태엽, 구본우, 유지원, 문경림, 윤진호, 이지은
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