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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2009-0028463 (2009-04-02) |
| 공개번호 | 10-2010-0110076 (2010-10-12) |
| 등록번호 | 10-1139638-0000 (2012-04-17) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020090028463 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2009-04-02) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
나노입자를 함유하는 하이드로겔 제조방법을 제공한다.먼저, 실리카를 함유하는 나노 입자를 준비한다.상기 나노 입자의 표면에 라디칼 중합 개시기를 도입한다.상기 라디칼 중합 개시기가 도입된 나노 입자와 하기 화학식 1로 표시되는 비닐 모노머를 혼합한다.상기 라디칼 중합 개시기가 도입된 나노 입자와 상기 비닐 모노머를 반응시켜 하이드로겔을 형성한다.[화학식 1]R1R3C=CR2R4상기 화학식 1에서, R1은 히드록시기, 카르복실기, 아미드기, 니트로 페닐 기 또는 페닐기이고, R2, R3, 및 R4는 서로에 관계없이 탄소수 1 내지 3의
실리카를 함유하는 나노 입자를 준비하는 단계;상기 나노 입자의 표면에 퍼옥사이드기를 도입하되, 상기 퍼옥사이드기는 상기 나노 입자의 표면에 직접적으로 접하는 단계;상기 퍼옥사이드기가 도입된 나노 입자와 하기 화학식 1로 표시되는 비닐 모노머를 혼합하는 단계;상기 퍼옥사이드기가 도입된 나노 입자와 상기 비닐 모노머를 반응시켜 하이드로겔을 형성하는 단계를 포함하는 하이드로겔 제조방법:[화학식 1]R1R3C=CR2R4상기 화학식 1에서, R1은 히드록시기, 카르복실기, 아미드기, 니트로 페닐 기 또는 페닐기이고, R2, R3, 및 R4는
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