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연합인증

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[한국특허] 칼코게나이드 화합물을 위한 세정액
CLEANING SOLUTION FOR CHALCOGENIDE COMPOUND
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G03F-007/32
출원번호 10-2009-0032169 (2009-04-14)
공개번호 10-2010-0113720 (2010-10-22)
DOI http://doi.org/10.8080/1020090032169
발명자 / 주소
  • 정재창 / 서울특별시 강동구 둔촌*동 주공아파트 ***-***
출원인 / 주소
  • 주식회사 하이닉스반도체 / 경기 이천시 부발읍 아미리 산***-*
대리인 / 주소
  • 특허법인 신성
심사청구여부 있음 (2009-04-14)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 칼코게나이드 화합물로 이루어진 상변화물질층 식각 후 진행하는 세정공정시 상변화물질층이 손실되는 것을 방지할 수 있는 세정액을 제공하기 위한 것으로, 이를 위한 본 발명의 세정액은 트리플로로아세트산, 이소프로필알콜 및 탈이온수가 혼합된 수용액을 포함하고 있으며, 상술한 본 발명에 따르면, 식각 후 세정공정간 상변화물질층이 손실되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항

칼코게나이드 화합물로 이루어진 상변화물질층을 식각후의 세정공정을 위한 세정액에 있어서, 상기 세정액은 트리플로로아세트산(trifluoroacetic acid), 이소프로필알콜(isopropyl alcohol) 및 탈이온수(deionized water)가 혼합된 수용액을 포함하는 반도체 장치 제조용 세정액.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [국제] SOLUTION FOR REMOVAL OF RESIDUE AFTER SEMICONDUCTOR DRY PROCESSING, AND RESIDUE REMOVAL METHOD USING THE SAME | NAKAMURA SHINGO, KEZUKA TAKEHIKO

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