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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0032169 (2009-04-14) |
공개번호 | 10-2010-0113720 (2010-10-22) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090032169 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-04-14) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 칼코게나이드 화합물로 이루어진 상변화물질층 식각 후 진행하는 세정공정시 상변화물질층이 손실되는 것을 방지할 수 있는 세정액을 제공하기 위한 것으로, 이를 위한 본 발명의 세정액은 트리플로로아세트산, 이소프로필알콜 및 탈이온수가 혼합된 수용액을 포함하고 있으며, 상술한 본 발명에 따르면, 식각 후 세정공정간 상변화물질층이 손실되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
칼코게나이드 화합물로 이루어진 상변화물질층을 식각후의 세정공정을 위한 세정액에 있어서, 상기 세정액은 트리플로로아세트산(trifluoroacetic acid), 이소프로필알콜(isopropyl alcohol) 및 탈이온수(deionized water)가 혼합된 수용액을 포함하는 반도체 장치 제조용 세정액.
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