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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0041098 (2009-05-12) |
공개번호 | 10-2010-0122184 (2010-11-22) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090041098 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-05-12) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 제강공정에서 철 표면 세척 시 발생하는 부산물인 산화제2철과 폴리실리콘 제조공정 등에서 발생하는 부생염산을 원료로 별도의 산화제 첨가 없이 고순도 염화제2철을 제조하는 방법에 관한 것이다.특히, 본 발명에 의해 제조되는 염화제2철은 용도에 따라 전자부품 제조 시 사용되는 인쇄회로기판 에칭용 또는 폐수처리장의 응집제 등으로 병행 사용할 수 있는 염화제2철 제조방법을 제시하고자 하는데 그 목적이 있다.본 발명에 의해 제조된 염화제2철은 중화제를 투입하여 액중의 유리산을 중화함으로서 전자산업 등에서 정밀 에칭에 필수적으로 사용
제강공정에서 철 표면 또는 구조용강 등의 표면 세척 시 발생되는 산세폐산 중의 염산을 회수하고 발생되는 부산물 중의 산화제2철에 폴리실리콘 제조공정 등에서 발생된 부생염산을 혼합하여 80 ~ 130℃ 온도범위에서 3시간 내지 7시간 반응시키는 것을 특징으로 하는 고순도 염화제2철 제조방법.
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