다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
|
| 출원번호 | 10-2009-0066024 (2009-07-20) |
| 공개번호 | 10-2011-0008603 (2011-01-27) |
| 등록번호 | 10-1143982-0000 (2012-05-02) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020090066024 |
| 발명자 / 주소 |
|
| 출원인 / 주소 |
|
| 대리인 / 주소 |
|
| 심사청구여부 | 있음 (2009-07-20) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
본 발명은 플라즈마 전해 산화법(PEO : Plasma Electronic Oxidation)에 의해 금속 모재의 표면에 형성되는 산화피막으로서, 상기 산화피막을 형성시키기 위한 전해질 용액에는 전해질 용액과 합성, 침전, 가수분해 반응을 일으키는 금속염 성분이 첨가되며, 상기 산화피막에는, 상기 금속 모재의 성분과 전해질 용액과 금속염 성분의 합성 반응에 의해 생성되는 금속화합물이 포함되는 것을 특징으로 하는 복합 산화피막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.이에 의해, 전해질 용액과 합성 반응을 일으키는 금속염 성분을 전해질 용액에
플라즈마 전해 산화법(PEO : Plasma Electronic Oxidation)에 의해 금속 모재의 표면에 형성되는 산화피막으로서,상기 산화피막을 형성시키기 위한 전해질 용액에는 전해질 용액과 합성, 침전, 가수분해 반응을 일으키는 금속염 성분이 첨가되며,상기 산화피막에는,상기 금속 모재의 성분과 전해질 용액과 금속염 성분의 합성 반응에 의해 생성되는 금속화합물이 포함되며,상기 복합 산화피막은 300~500(V)의 전압에서 형성되고,상기 금속화합물은 상기 전압범위에서 전기영동(電氣泳動)되어 상기 산화피막 상에 복합물층을 형성하며
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.