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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0121841 (2009-12-09) |
등록번호 | 10-1031367-0000 (2011-04-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090121841 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-12-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 와류발생판이 구비된 대기압 플라즈마 장치에 관한 것으로서, 특히 방전공간을 통과하는 가스의 체류시간을 증대시켜 양질의 플라즈마를 발생시킬 수 있는 와류발생판이 구비된 대기압 플라즈마 장치에 관한 것이다.본 발명의 와류발생판이 구비된 대기압 플라즈마 장치는, 접지되어 있고 하부가 개방된 하우징과; 상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 측면과 이격되게 배치되어 방전공간을 형성하는 RF전극과; 상기 RF전극에 전원을 공급하는 전원공급부와; 상기 하우징 내부에 배치되어 상기 RF전극을 상기 하우징에 이격된 상태로 고정시키는 절연체
접지되어 있고 하부가 개방된 하우징과;상기 하우징의 내부에 상기 하우징의 측면과 이격되게 배치되어 방전공간을 형성하는 RF전극과;상기 RF전극에 전원을 공급하는 전원공급부와;상기 하우징 내부에 배치되어 상기 RF전극을 상기 하우징에 이격된 상태로 고정시키는 절연체로 이루어지고,상기 방전공간의 상부를 통해 공급된 가스는 상기 방전공간에서 방전되어 상기 방전공간의 하부를 통해 플라즈마 상태로 분사되되,상기 하우징의 하부에는 상기 방전공간의 하부의 일부를 막아 와류를 발생시키는 와류발생판이 장착되어, 상기 방전공간에서 상기 가스의 체류시
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