초록 ▼

본 발명은 핵폐기물 처리방법의 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 유도 차폐하여 1200℃이상의 고온의 흡열반응에 의한 환원반응으로 개질시켜 핵폐기물을 처리 할 수 있도록 하는 핵폐기물 처리 방법의 장치에 관한 것이다.이를 위하여 본 발명은 방사성 유해 물질의 유출을 차폐하기 위하여 진공 상태의 공간 유리벽을 장치하여 고주파 전류를 이용하여 양이온과 음이온을 발생시켜 방사성 물질의 유출을 유도차폐 시킬 수 있게 하여 핵폐기물의 유기물을 산소가 결핍된 밀폐된 공간의 흡열반응 개질로(爐)를 고주파

본 발명은 핵폐기물 처리방법의 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 유도 차폐하여 1200℃이상의 고온의 흡열반응에 의한 환원반응으로 개질시켜 핵폐기물을 처리 할 수 있도록 하는 핵폐기물 처리 방법의 장치에 관한 것이다.이를 위하여 본 발명은 방사성 유해 물질의 유출을 차폐하기 위하여 진공 상태의 공간 유리벽을 장치하여 고주파 전류를 이용하여 양이온과 음이온을 발생시켜 방사성 물질의 유출을 유도차폐 시킬 수 있게 하여 핵폐기물의 유기물을 산소가 결핍된 밀폐된 공간의 흡열반응 개질로(爐)를 고주파 유도가열 장치를 이용 1200℃이상으로 발열시켜 두 개의 개질 반응 즉, Steam 개질과 Dry 개질을 통하여 핵폐기물을 처리하는 방법의 장치에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 유도차폐하여 고온 1200℃ 이상의 흡열반응에 의한 환원반응으로 개질시켜 핵폐기물을 처리하는 방법의 장치에 있어서 상기 핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 차폐하기 위하여 진공 상태의 이중유리벽을 장치하여 고주파 전류를 이용하여 양이온과 음이온을 발생시켜 양이온과 음이온이 방사성 물질의 유출을 유도 차폐하고 핵폐기물의 유기물을 산소가 결핍된 공간의 상태의 흡열반응개질로(爐)를 고주파유도가열 장치로 고온 1200℃ 이상 가열하여 두 개의 개질반응 즉 steam 개질 ( H2 + 1/2O2 →

핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 유도차폐하여 고온 1200℃ 이상의 흡열반응에 의한 환원반응으로 개질시켜 핵폐기물을 처리하는 방법의 장치에 있어서 상기 핵폐기물에서 유출되는 방사성 유해물질을 차폐하기 위하여 진공 상태의 이중유리벽을 장치하여 고주파 전류를 이용하여 양이온과 음이온을 발생시켜 양이온과 음이온이 방사성 물질의 유출을 유도 차폐하고 핵폐기물의 유기물을 산소가 결핍된 공간의 상태의 흡열반응개질로(爐)를 고주파유도가열 장치로 고온 1200℃ 이상 가열하여 두 개의 개질반응 즉 steam 개질 ( H2 + 1/2O2 → H2O + CH4 → CO + 3H2)과 Dry 개질 ( CO + 1/2O2 → CO2 + CH4 → 2CO + 2H2 )이 동시에 이루어 합성가스(syngas/co=H2)가 생성된다 생성된 합성가스를 재순환시켜 소멸시킬 수 있는 핵폐기 처리 방법의 장치