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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0032011 (2010-04-07) |
공개번호 | 10-2011-0112724 (2011-10-13) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100032011 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명의 극자외선(EUV) 블랭크 마스크는, 기판과, 기판 위에 배치되는 흡착층과, 흡착층 위에 배치되어 막에 의해 유발되는 스트레스를 흡수하는 스트레스 버퍼층과, 스트레스 버퍼층 위에 배치되는 반사다층과, 반사다층 위에 배치되는 캡핑층과, 그리고 캡핑층 위에 배치되는 흡수층을 포함한다.
기판;상기 기판 위에 배치되는 흡착층;상기 흡착층 위에 배치되어 막에 의해 유발되는 스트레스를 흡수하는 스트레스 버퍼층;상기 스트레스 버퍼층 위에 배치되는 반사다층;상기 반사다층 위에 배치되는 캡핑층; 및상기 캡핑층 위에 배치되는 흡수층을 포함하는 극자외선 블랭크 마스크.
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