초록

마스크리스 노광 공정에서 가상의 마스크를 이용하여 레이어별로 오버레이하는 방법을 통해 마스크리스 적층 노광을 수행할 수 있는 정렬 방법을 제안한다.마스크리스 노광에서 기존 마스크 노광의 마스크와 같은 역할을 하는 가상의 마스크라는 개념을 도입하고, 기존 마스크 노광의 정렬 마크와 같은 역할을 하는 가상의 타켓 마크라는 개념을 도입하여 레이어별로 오버레이를 수행함으로써 마스크리스 노광에서도 적층 노광을 할 수 있다.

대표청구항

기판을 이동시키는 스테이지;상기 기판에 적층되는 레이어;상기 레이어에 패턴을 노광하기 위해 노광 빔을 빔 스팟 어레이 형태로 전사하여 가상의 마스크를 생성하는 광 변조소자;상기 레이어에 새겨진 정렬 마크의 위치를 계측하는 정렬부;상기 계측된 정렬 마크의 위치를 이용하여 상기 가상의 마스크에 존재하는 타겟 마크의 위치를 계산하고, 상기 계산된 타겟 마크의 위치를 이용하여 상기 가상의 마스크와 상기 기판의 정렬을 수행하는 제어부를 포함하는 마스크리스 노광 장치.

기판을 이동시키는 스테이지;상기 기판에 적층되는 레이어;상기 레이어에 패턴을 노광하기 위해 노광 빔을 빔 스팟 어레이 형태로 전사하여 가상의 마스크를 생성하는 광 변조소자;상기 레이어에 새겨진 정렬 마크의 위치를 계측하는 정렬부;상기 계측된 정렬 마크의 위치를 이용하여 상기 가상의 마스크에 존재하는 타겟 마크의 위치를 계산하고, 상기 계산된 타겟 마크의 위치를 이용하여 상기 가상의 마스크와 상기 기판의 정렬을 수행하는 제어부를 포함하는 마스크리스 노광 장치.