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내구성이 우수한 내지문 박막 구조물 및 그 형성 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C09D-005/00
  • C08J-007/04
  • C03C-017/34
출원번호 10-2010-0058475 (2010-06-21)
공개번호 10-2011-0138541 (2011-12-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020100058475
발명자 / 주소
  • 정희섭 / 서울특별시 서초구 서초동 ****-* 프리우스아파트 B*-***호
출원인 / 주소
  • (주)에이엠피테크놀로지 / 경기도 군포시 당정동 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인명문
심사청구여부 있음 (2010-06-21)
심사진행상태 포기(등록료 미납)
법적상태 포기

초록

내구성이 우수한 내지문 박막 구조물 및 그 형성 방법이 개시된다.본 발명의 일 실시예에 다른 내지문 박막 구조물은 기판; 상기 기판 상에 2차원 평면상으로 형성되며, 다수의 그레인들과 다수의 그레인 바운더리들을 포함하는 그레인 박막층; 및 상기 그레인 박막층 상부에 내지문 코팅 물질에 의해 형성되는 내지문 코팅층을 포함하고, 내지문 특성의 내구성을 향상시키기 위해, 상기 내지문 코팅 물질이 상기 다수의 그레인 바운더리들에 침투되도록 형성하며, 상기 그레인 박막층의 접착력을 향상시키기 위해 상기 기판과 상기 그레인 박막층 사이에 형성

대표청구항

기판;상기 기판 상에 2차원 평면상으로 형성되며, 다수의 그레인들과 다수의 그레인 바운더리들을 포함하는 그레인 박막층; 및상기 그레인 박막층 상부에 내지문 코팅 물질에 의해 형성되는 내지문 코팅층을 포함하는 것을 특징으로 하는 내지문 박막 구조물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 디스플레이 보호창 | 조재우, 성기로
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