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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0097701 (2010-10-07) |
등록번호 | 10-1014350-0000 (2011-02-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100097701 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-10-07) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 고순도 티타늄 합금 분말의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 고순도 티타늄 합금 분말에 관한 것으로서, 상세하게는 액상 마그네슘 위로 티타늄 합금금속 가공 칩을 위치시켜 칩의 표면을 환원시키는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 환원된 칩을 산성 수용액으로 세척하는 단계(단계 2); 상기 단계 2에서 세척된 칩을 수소화 반응 시키는 단계(단계 3); 단계 3에서 수소화 반응된 칩을 분쇄하는 단계(단계 4); 및 단계 4에서 분쇄된 분말을 탈수소화 시키는 단계(단계 5)를 포함하는 고순도 티타늄 합금 분말의 제조방법 및 이
액상 마그네슘이 담지된 용기 상부에 티타늄 합금 덩어리를 얇게 가공한 가공 칩을 위치시켜 상기 가공 칩의 표면에 존재하는 산화물을 열처리하여 환원시키는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 환원된 가공 칩에 존재하는 마그네슘 산화물 또는 마그네슘 금속을 산성 수용액으로 세척하는 단계(단계 2);상기 단계 2에서 세척된 가공 칩을 수소분위기에서 열처리하여 수소화반응 시키는 단계(단계 3); 상기 단계 3에서 수소화 반응된 가공 칩을 분쇄하는 단계(단계 4); 및상기 단계 4에서 분쇄된 가공 칩을 열처리하여 탈수소화시키는 단계(단계 5)를
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