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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2010-0117811 (2010-11-25) |
| 공개번호 | 10-2012-0056337 (2012-06-04) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020100117811 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 중공 실리카 입자의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 중공 실리카 입자에 관한 것으로, 전해질 복합체를 용제에 분산시키는 단계, 실리카 전구체를 투입하여 전해질 복합체/실리카 코어쉘을 형성하는 단계 및 물을 이용하여 상기 전해질 복합체/실리카 코어쉘에서 전해질 복합체를 제거하는 단계를 포함한다.본 발명에 의한 중공 실리카 입자의 제조 방법은 템플릿 코어로 고분자 전해질과 암모니아수 복합체를 이용하기에 물을 투입하여 실리카 쉘 내에서 상기 복합체를 간단하게 제거할 수 있다. 또한, 중공 실리카 입자의 제조 공정을 보다 단
전해질 복합체를 형성하는 단계,상기 전해질 복합체를 용제에 분산시키는 단계,상기 용제에 실리카 전구체를 투입하여 전해질 복합체/실리카 코어쉘을 형성하는 단계 및물을 이용하여 상기 전해질 복합체/실리카 코어쉘에서 전해질 복합체를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공 실리카 입자의 제조 방법.
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