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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0128557 (2010-12-15) |
공개번호 | 10-2012-0067118 (2012-06-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100128557 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-12-15) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명의 목적은 가시광의 투과율 저하를 최소화하며, 원가를 낮추며, 지문방지율을 높이는 지문방지필름 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 지문방지필름 제조 방법은, 투명필름을 준비하는 제1 단계, 및 상기 투명필름의 일면에 0.1 내지 1㎛의 깊이를 가지는 오목 홈으로 설정 패턴을 형성하는 제2 단계를 포함한다.
투명필름을 준비하는 제1 단계; 및상기 투명필름의 일면에 0.1 내지 1㎛의 깊이를 가지는 오목 홈으로 설정 패턴을 형성하는 제2 단계를 포함하는 지문방지필름 제조 방법.
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