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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-7028413 (2010-12-17) | |
공개번호 | 10-2011-0010119 (2011-01-31) | |
등록번호 | 10-1291431-0000 (2013-07-24) | |
우선권정보 | 미국(US) 12/142,286 (2008-06-19) | |
국제출원번호 | PCT/US2009/047026 (2009-06-11) | |
국제공개번호 | WO 2009/155199 (2009-12-23) | |
번역문제출일자 | 2010-12-17 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020107028413 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-12-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
1종 이상의 항산화제, 및 과산화수소에 의해 생성된 반응성 산소 종을 중화시키는 데 사용될 수 있는 1종 이상의 자유 라디칼 제거제를 포함하는 과산화수소-함유 조성물, 및 과산화수소-함유 조성물을 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
실온 저장 조건 하에서 12개월 이상 동안 디벨로퍼 조성물 중에 존재하는 과산화수소의 90% 이상이 안정하도록 하기에 충분한 양으로 존재하는, 0.001 내지 70%의 과산화수소, 0.01 내지 10%의 시트르산 또는 그의 염, 및 0.01 내지 10%의 토코페롤, 토코페롤 아세테이트 또는 토코페릴 리놀레에이트를 포함하는 산화성 염색, 퍼머넌트 웨이브 또는 모발 탈색을 위한 과산화수소 기재 디벨로퍼 조성물.
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