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연합인증

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다공성 물질의 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 다공성 물질 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C08G-077/06
  • C08J-009/00
  • C08J-009/232
  • C08J-003/28
출원번호 10-2010-7029133 (2010-12-24)
공개번호 10-2011-0021951 (2011-03-04)
국제출원번호 PCT/EP2009/056160 (2009-05-20)
국제공개번호 WO2009150021 (2009-12-17)
번역문제출일자 2010-12-24
DOI http://doi.org/10.8080/1020107029133
발명자 / 주소
  • 클리프, 안드레아스 / 독일 ***** 람브스하임 빅토리아링 **
  • 바그너, 노버트 / 독일 ***** 무테르스타트 프란켄스트라세 *
  • 자가르, 시릴 / 중국 홍콩 **에이 로빈슨 로드 넘버 **
  • 페슈텐쾨테르, 안드레아스 / 싱가폴 ****** 싱가폴 캐러비안 #**-** 케펠 베이 드라이브 **
  • 펭,치-쳉 / 싱가폴 ****** 싱가폴 더 갈렌 #**-** 사이언스 파크 로드 **
  • 시, 치엔, 수에, 스티브 / 대만 시-유안 로드 섹션 * 넘버 *** *에프
  • 수잔디, 수잔디 / 싱가폴 ****** 싱가폴 #**-** 클레멘티 애버뉴 ***
출원인 / 주소
  • 바스프 에스이 / 독일 데-***** 루드빅샤펜
대리인 / 주소
  • 양영준; 위혜숙
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 하기 단계들을 a-b-c-d의 순서로 포함하는 다공성 물질의 제조 방법에 관한 것이다: (a) 용매 (C)의 존재 하에 1종 이상의 유기실란 (A)를 물과 반응시켜 중합체 물질을 형성하는 단계, (b) 상기 중합체 물질을 제1 열처리하는 단계, (c) 상기 중합체 물질을 1종 이상의 탈히드록시화제 (D)와 접촉시키는 단계, 및 (d) 상기 중합체 물질을 전자기 방사선 처리 및/또는 추가 열처리하는 단계.본 발명은 또한 본 발명의 방법에 의해 수득가능한 다공성 물질, 상기 다공성 물질을 포함하는 반도체 소자 및 전자 부품,

대표청구항

하기 단계들을 a-b-c-d의 순서로 포함하는 다공성 물질의 제조 방법:(a) 용매 (C)의 존재 하에 1종 이상의 유기실란 (A)를 물과 반응시켜 중합체 물질을 형성하는 단계,(b) 상기 중합체 물질을 제1 열처리하는 단계,(c) 상기 중합체 물질을 1종 이상의 탈히드록시화제 (D)와 접촉시키는 단계, 및(d) 상기 중합체 물질을 전자기 방사선 처리 및/또는 추가 열처리하는 단계.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 다공성 나노 입자를 포함하는 저유전 박막 형성용 조성물 및 이를 이용한 저유전 박막의 제조방법 | 이진규, 정현담, 신현진
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