초록 ▼

본 발명은 나노로드 제조 방법에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 나노로드를 원하는 영역에 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라, 나노로드의 길이를 짧게는 수십 나노미터에서 길게는 수 마이크론 이상까지 조절가능 한 나노로드 제조 방법을 제공하는 데 있다.이를 위해 기판층(10) 상부에 나노소재층(20)을 증착하는 나노소재층증착단계(S01); 상기 나노소재층(20) 상부에 금속층(30)을 증착하는 금속층증착단계(S02); 상기 금속층(30)에 열처리 및 플라즈마 처리를 하여 방울패턴(40)을 형성하는 방울패턴형성단계(S03); 상

본 발명은 나노로드 제조 방법에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 나노로드를 원하는 영역에 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라, 나노로드의 길이를 짧게는 수십 나노미터에서 길게는 수 마이크론 이상까지 조절가능 한 나노로드 제조 방법을 제공하는 데 있다.이를 위해 기판층(10) 상부에 나노소재층(20)을 증착하는 나노소재층증착단계(S01); 상기 나노소재층(20) 상부에 금속층(30)을 증착하는 금속층증착단계(S02); 상기 금속층(30)에 열처리 및 플라즈마 처리를 하여 방울패턴(40)을 형성하는 방울패턴형성단계(S03); 상기 방울패턴(40)을 마스크(mask)로 하여 상기 금속층(30)을 건식식각하여 상기 방울패턴(40)의 하부에 나노로드(50)를 형성하는 건식식각단계(S04); 및, 상기 나노로드(50)의 상부에 잔존하는 방울패턴(40)을 제거하는 방울패턴제거단계(S05); 를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 나노로드 제조 방법을 개시한다.

대표청구항 ▼

기판층(10) 상부에 나노소재층(20)을 증착하는 나노소재층증착단계(S01);상기 나노소재층(20) 상부에 금속층(30)을 증착하는 금속층증착단계(S02);상기 금속층(30)에 열처리 및 플라즈마 처리를 하여 방울패턴(40)을 형성하는 방울패턴형성단계(S03);상기 방울패턴(40)을 마스크(mask)로 하여 상기 금속층(30)을 건식식각하여 상기 방울패턴(40)의 하부에 나노로드(50)를 형성하는 건식식각단계(S04); 및,상기 나노로드(50)의 상부에 잔존하는 방울패턴(40)을 제거하는 방울패턴제거단계(S05); 를 포함하여 형성

기판층(10) 상부에 나노소재층(20)을 증착하는 나노소재층증착단계(S01);상기 나노소재층(20) 상부에 금속층(30)을 증착하는 금속층증착단계(S02);상기 금속층(30)에 열처리 및 플라즈마 처리를 하여 방울패턴(40)을 형성하는 방울패턴형성단계(S03);상기 방울패턴(40)을 마스크(mask)로 하여 상기 금속층(30)을 건식식각하여 상기 방울패턴(40)의 하부에 나노로드(50)를 형성하는 건식식각단계(S04); 및,상기 나노로드(50)의 상부에 잔존하는 방울패턴(40)을 제거하는 방울패턴제거단계(S05); 를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 나노로드 제조 방법.