[특허]알루미늄 아노다이징의 봉공처리 조성물

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[한국특허] 알루미늄 아노다이징의 봉공처리 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)	C25D-011/18
출원번호	10-2011-0027087 (2011-03-25)
공개번호	10-2012-0108776 (2012-10-05)
등록번호	10-1270671-0000 (2013-05-28)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020110027087
발명자 / 주소	장관섭 / 서울특별시 강서구 등촌로 *, 동 호 (등촌동, 등촌동아이파크) 장도섭 / 서울특별시 강서구 등촌로 , 동 *호 (등촌동, 등촌동 아이파크)
출원인 / 주소	주식회사 영광와이케이엠씨 / 충남 아산시 둔포면 아산밸리 중앙로 ***
대리인 / 주소	특허법인 이노
심사청구여부	있음 (2011-03-25)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 알루미늄 아노다이징의 봉공처리 조성물에 관한 것으로, 리튬염을 포함하는 새로운 봉공처리 조성물을 제공한다.

대표청구항

초산리튬 1 내지 50 g/L, 탄산리튬 1 내지 6 g/L, 초산 1 내지 10 g/L, 라우릴 황산나트륨 1 내지 5 g/L, 폴리옥시에틸렌 글리콜 1 내지 5 g/L 및 초산암모늄 0.1 내지 3 g/L를 포함하며,pH는 5.0 내지 8.0이고, 임피던스는 12.1 내지 22.5인 것을 특징으로 하는 봉공처리 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[일본] HEXAVALENT CHROMIUM-FREE SEALING METHOD APPLICABLE AFTER SULFURIC ANODIZATION OF ALUMINUM ALLOY, SEALING SOLUTION USED IN THE METHOD, AND ARTICLE TREATED USING THE METHOD | RUIMI MICHEL MEYER, OBERLAENDER GUILLAUME ROGER PIERRE, GONZALEZ VALERIE
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[일본] SEALING METHOD FOR ANODIC OXIDE FILM | TANAKA HIROOMI, YAMAMOTO TOMOHARU, FUJITA MASAHIRO
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이 특허를 인용한 특허 (3)

[한국] 소수성 양극 산화 피막 및 이의 형성 방법 | 한세충, 이종윤
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[한국] 알루미늄합금 산화층의 후열처리를 이용한 표면경화방법 | 전윤남, 정나겸, 김상준, 박지현, 장관섭
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[한국] 리튬 박 형성용 전해액 및 리튬 박 제조방법 | 전준미, 이홍기, 이창면, 허진영
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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