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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-0049695 (2011-05-25) | |
공개번호 | 10-2012-0131491 (2012-12-05) | |
등록번호 | 10-1950876-0000 (2019-02-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110049695 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-05-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
실리콘 카바이드 제조장치 및 실리콘 카바이드 제조 방법이 제공된다. 실리콘 카바이드 제조장치는 원료를 수용하는 반응로; 상기 반응로 내에 배치되는 제 1 전극; 상기 제 1 전극과 이격되는 제 2 전극; 상기 반응로에 원료를 공급하는 소스 공급부; 및 상기 반응로에서 생성된 입자들을 포집하는 입자 포집부를 포함한다.
원료를 수용하는 반응로;상기 반응로 내에 배치되는 제 1 전극;상기 제 1 전극과 이격되는 제 2 전극;상기 반응로에 원료를 공급하는 소스 공급부; 및상기 반응로에서 생성된 입자들을 포집하는 입자 포집부를 포함하고,상기 입자 포집부는 상기 반응로에서 생성된 실리콘 카바이드 입자들을 포집하고,상기 입자 포집부는제 1 실리콘 카바이드 입자들을 포집하는 제 1 입자 포집부; 및상기 제 1 입자 포집부 상에 배치되고, 상기 제 1 실리콘 카바이드 입자들보다 더 작은 직경을 가지는 제 2 실리콘 카바이드 입자들을 포집하는 제 2 입자 포집부
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