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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-0077488 (2011-08-03) | |
공개번호 | 10-2013-0015479 (2013-02-14) | |
등록번호 | 10-1507999-0000 (2015-03-26) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110077488 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-08-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(취소환송후) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 높은 안정도를 갖는 구상의 고분자 입자를 RITP 중합법 및 용액 재결정법을 통하여 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 일정한 분자량 범위를 갖는 고분자 라텍스 입자를 RITP 중합법을 통해 제조한 후, 이를 상용성 용매에 완전 용해시켜 용해도 차이를 이용하여 구형의 안정화된 고분자 입자를 용매 상에서 재결정하여 수득하는 방법에 관한 것이다.
(a) 불포화 비닐계 단량체, 수용성 중합개시제, 퍼옥사이드계 촉매 및 사슬 이동제를 반응 용매에 용해시키고 교반하여 고분자 라텍스 입자를 제조하는 단계; 및(b) 상기 고분자 라텍스 입자를 상용성 용매에 용해시키고 증류된 탈 이온수를 첨가하여 분산시켜 재결정화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구형 고분자 입자의 제조방법에 있어서, 상기 (a)단계에서 제조된 고분자 라텍스의 PDI가 1.5 ~ 1.8 범위에 있는 것을 특징으로 하는 구형 고분자 입자의 제조방법.
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