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RITP 중합법과 용액 재결정법을 이용한 안정화된 단분산 구형 고분자 입자의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08J-003/12
  • C08F-012/08
  • C08F-002/00
  • C08F-006/18
출원번호 10-2011-0077488 (2011-08-03)
공개번호 10-2013-0015479 (2013-02-14)
등록번호 10-1507999-0000 (2015-03-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020110077488
발명자 / 주소
  • 김여주 / 인천광역시 남동구 남동대로***번길 **-** (간석동)
  • 최순자 / 인천광역시 연수구 솔샘로**번길 **, 겜마주택 ***호 (청학동)
  • 김기정 / 경기도 평택시 포승읍 여술로 **, 모아미래도아파트 ***동 ****호
  • 이병형 / 인천광역시 계양구 용종로 ***, 학마을한진아파트 ***동 ****호 (병방동)
출원인 / 주소
  • 인하대학교 산학협력단 / 인천광역시 남구 인하로 ***, 인하대학교 (용현동)
대리인 / 주소
  • 한라특허법인
심사청구여부 있음 (2011-08-03)
심사진행상태 등록결정(취소환송후)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 높은 안정도를 갖는 구상의 고분자 입자를 RITP 중합법 및 용액 재결정법을 통하여 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 일정한 분자량 범위를 갖는 고분자 라텍스 입자를 RITP 중합법을 통해 제조한 후, 이를 상용성 용매에 완전 용해시켜 용해도 차이를 이용하여 구형의 안정화된 고분자 입자를 용매 상에서 재결정하여 수득하는 방법에 관한 것이다.

대표청구항

(a) 불포화 비닐계 단량체, 수용성 중합개시제, 퍼옥사이드계 촉매 및 사슬 이동제를 반응 용매에 용해시키고 교반하여 고분자 라텍스 입자를 제조하는 단계; 및(b) 상기 고분자 라텍스 입자를 상용성 용매에 용해시키고 증류된 탈 이온수를 첨가하여 분산시켜 재결정화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구형 고분자 입자의 제조방법에 있어서, 상기 (a)단계에서 제조된 고분자 라텍스의 PDI가 1.5 ~ 1.8 범위에 있는 것을 특징으로 하는 구형 고분자 입자의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] RITP 유화중합법에 의한 저분자량의 비닐계 고분자 입자의 제조방법 | 최순자, 이강석, 오형근, 반준형
  2. [미국] METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING FINE PARTICLES | Takahashi, Kazunori, Miyoshi, Yoshiyuki
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