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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0078596 (2011-08-08) |
공개번호 | 10-2013-0016575 (2013-02-18) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110078596 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-08-08) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 저분자 히알루론산의 제조방법에 관한 것으로 좀 더 상세하게는 불용성 물질인 히알루론산을 알콜 또는 알콜/아세톤 혼합용액에 분산시키고 이용액에 산을 히알루론산의 총중량에 대하여 0.1 내지 25중량%의 산을 첨가하여 일정 시간 동안 침적시켜 반응시켜 제조함으로써 고순도의 저분자 히알루론산을 제조하는 방법에 관한 것이다.용매에 분산된 상태에서 제조하기 때문에 사용한 용매 및 산의 농도에 따라원하는 분자의 저분자 히알루론산을 제조할 수 있으며 또한 염산 뿐만 아니라 산의 종류와 관계없이 적은 양의 산으로 제조할 수 있으며 분산
고분자량인 히알루론산을 알콜류/아세톤의 혼합용액에 히알루론산을 용해시키지 않고 분산시킨 상태에서 산을 히알루론산의 총중량에 대하여 0.1 내지 25중량%의 산을 첨가하여 일정 시간 동안 반응시킨 후 알콜(에탄올)용매로 세척하여 산을 모두 제거하여 여과 및 건조함으로써 히알루론산이 변성이 일어나지 않는 고순도의 저분자 히알루론산의 제조방법
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