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연합인증

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IGZO 타겟 제조방법 및 이에 의해 제조된 IGZO 타겟 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/34
  • C23C-014/08
  • C04B-035/00
출원번호 10-2011-0083994 (2011-08-23)
공개번호 10-2013-0021621 (2013-03-06)
등록번호 10-1446615-0000 (2014-09-25)
DOI http://doi.org/10.8080/1020110083994
발명자 / 주소
  • 유일환 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **, 삼성코닝정밀소재
  • 이형록 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **, 삼성코닝정밀소재
  • 김동조 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **, 삼성코닝정밀소재
  • 유태환 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **, 삼성코닝정밀소재
  • 정상철 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **, 삼성코닝정밀소재
출원인 / 주소
  • 코닝정밀소재 주식회사 / 충청남도 아산시 탕정면 만전당길 **
대리인 / 주소
  • 김선민
심사청구여부 있음 (2011-12-23)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 타겟 제조방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 산화인듐(In2O3) 분말과, 산화갈륨(Ga2O3) 분말, 및 산화아연(ZnO) 분말을 분산제와 혼합하여 각각 분산시키는 IGZO 타겟 제조방법 및 이에 의해 제조된 IGZO 타겟에 관한 것이다.이를 위해 본 발명은 산화인듐(In2O3) 분말과, 산화갈륨(Ga2O3) 분말, 및 산화아연(ZnO) 분말을 분산제와 혼합하여 각각 분산시키는 분산 과정, 및 각각 분산된 상기 산화인듐 분말과, 산화갈륨 분말, 및 산화아연 분말을 혼합하여 성형체로 제조한 후 소결하는 소결 과정을 포함

대표청구항

산화인듐(In2O3) 분말과, 산화갈륨(Ga2O3) 분말, 및 산화아연(ZnO) 분말을 분산제와 혼합하여 각각 분산시키는 분산 과정; 및각각 분산된 상기 산화인듐 분말과, 산화갈륨 분말, 및 산화아연 분말을 혼합하여 성형체로 제조한 후 소결하는 소결 과정을 포함하고,상기 소결 과정은각각 분산된 상기 산화인듐 분말과, 산화갈륨 분말, 및 산화아연 분말을 혼합하여 슬러리를 생성하는 슬러리 생성단계;상기 슬러리에 바인더를 첨가하는 바인더 첨가단계;바인더가 첨가된 상기 슬러리를 분무 건조하여 과립분말로 만드는 과립화단계;상기 과립분말을 성

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 산화아연 타겟 및 그 제조 방법 | 이윤규, 이진호, 유일환, 박주옥
  2. [한국] 산화아연계 스퍼터링 타겟, 그 제조 방법 및 그를 이용하여 제조된 산화아연계 박막 | 이윤규, 이진호, 박주옥, 유일환
  3. [한국] 스퍼터링용 산화물 소결체 타겟 및 그 제조 방법 | 오사다 고조, 오츠카 히로아키
  4. [한국] IGZO계 산화물 재료 및 IGZO계 산화물 재료의 제조방법 | 우메다 켄이치, 스즈키 마사유키, 타나카 아츠시

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 스퍼터링 타겟 제조방법 | 윤상원, 이윤규, 김동조, 이용진, 박주옥
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