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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0093786 (2011-09-19) | |
공개번호 | 10-2013-0030368 (2013-03-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110093786 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-09-19) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 플라즈마 광촉매 필터에 관한 것으로, 플라즈마 처리장치에 사용되는 전극으로서, 필터 기능을 포함하도록 유해가스가 통과할 수 있는 구조를 갖는 베이스, 베이스의 외부면에 도포된 전도성있는 광촉매층으로 이루어진 애노드전극과; 상기 애노드전극을 구성하는 광촉매층과 마주보게 간격을 두고 대향 배치되며, 유해가스가 통과할 수 있는 구조를 갖는 캐소드전극;으로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광촉매 필터를 제공한다.본 발명에 따르면, 플라즈마 발생용 전극과 필터가 일체화되어 있어 구조가 간단하고, 제조비용이 저렴하며, 대면적에
플라즈마 처리장치에 사용되는 전극으로서,필터 기능을 포함하도록 유해가스가 통과할 수 있는 구조를 갖는 베이스, 베이스의 외부면에 도포된 전도성있는 광촉매층으로 이루어진 애노드전극과;상기 애노드전극을 구성하는 광촉매층과 마주보게 간격을 두고 대향 배치되며, 유해가스가 통과할 수 있는 구조를 갖는 캐소드전극;으로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 광촉매 필터.
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