[특허]기포력이 우수한 설페이트-프리 샴푸 조성물

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[한국특허] 기포력이 우수한 설페이트-프리 샴푸 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	A61K-008/30 A61K-008/41 A61K-008/44 A61Q-005/00
출원번호	10-2011-0121104 (2011-11-18)
공개번호	10-2013-0055387 (2013-05-28)
등록번호	10-1921630-0000 (2018-11-19)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020110121104
발명자 / 주소	배우리 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 **, 아모레퍼시픽기술연구원 (보라동) 강병하 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 , 아모레퍼시픽기술연구원 (보라동) 이존환 / 경기도 용인시 기흥구 용구대로 **, 아모레퍼시픽기술연구원 (보라동)
출원인 / 주소	(주)아모레퍼시픽 / 서울특별시 용산구 한강대로 **(한강로가)
대리인 / 주소	김영철; 김 순 영; 임희택
심사청구여부	있음 (2016-10-31)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 설페이트계 음이온성 계면활성제를 함유하지 않는 설페이트-프 샴푸 조성물에 관한 것이다.　 본 발명은 음이온쪽 말단에 SO3-를 가지는 설테인계 양쪽 이온성 계면활성제를 포함하는 설페이트-프리 샴푸 조성물을 제공한다.　 바람직하게는, 음이온쪽 말단에 COO-를 가지는 베타인계 양쪽 이온성 계면활성제를 더 포함한다.　 본 발명에 따르면, 설페이트계를 함유하지 않아 모발의 손상이나 염색모의 물 빠짐(색 빠짐)이 방지되며, 설테인계 양쪽 이온성 계면활성제를 포함하여 우수한 기포력을 갖는다.　

대표청구항

음이온쪽 말단에 SO3-를 가지는 설테인계 양쪽 이온성 계면활성제; 음이온쪽 말단에 COO-를 가지는 베타인계 양쪽 이온성 계면활성제; 및음이온성 계면활성제인 다이소듐라우릴 설포석시네이트 및 다이소듐라우레스 설포석시네이트를 포함하는 설페이트-프리 샴푸 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

[미국] Shampoo composition | Chun Ho M. (1721 19th Ave. NW. New Brighton MN 55112)
상세보기
[미국] Surfactant blends for generating a stable wet foam | Dahms Gerd H.,DEX, Cook James W.
상세보기
[미국] MILD, FOAMING CLEANSING COMPOSITION | SANS,ANNE, CANDOLIVES,MARILYNE, HAUCHECORNE,SYLVIE
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[미국] High foaming detergent composition having a non-ionic surfactant base | Steven J. Knox, Arshad Malik
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (1)

[한국] 설페이트―프리 샴푸 조성물 | 박무경, 선은미, 오주영, 황성록
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

[특허] 고함량의 설포석시네이트계 계면활성제를 함유하는 설페이트―프리 샴푸 조성물

저작권 관리 안내

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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