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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-0123540 (2011-11-24) | |
공개번호 | 10-2013-0057677 (2013-06-03) | |
등록번호 | 10-1354343-0000 (2014-01-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110123540 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-11-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법은, 빛의 세기(line intensity)에 대한 수학적 모델링을 설립하는 단계; 및 설립된 상기 수학적 모델링에 기초하여 EEDF(Electron Energy Distribution Function)를 측정하는 단계를 포함하며, 측정된 상기 EEDF의 변동에 기초하여 공정 플라즈마 상태에 관한 모니터링을 수행하는 것을 특징으로 한다.
빛의 세기(line intensity)에 대한 수학적 모델링을 설립하는 단계;설립된 상기 수학적 모델링에 기초하여 EEDF(Electron Energy Distribution Function)를 측정하는 단계; 및측정된 상기 EEDF의 변동에 기초하여 공정 플라즈마 상태에 관한 플라즈마의 전자 에너지분포 특성 변동의 모니터링을 수행하는 단계를 포함하며,상기 빛의 세기에 대한 수학적 모델링은 다음과 같은 식으로 표현되는 것을 특징으로 하는 플라즈마의 전자 에너지 분포 특성 변동 모니터링 방법:여기서, 상기 σ(E)는 에너지 E를 갖는
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