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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-7013611 (2011-06-14) | |
공개번호 | 10-2011-0107796 (2011-10-04) | |
등록번호 | 10-1316804-0000 (2013-10-02) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2008-329612 (2008-12-25) | |
국제출원번호 | PCT/JP2009/006731 (2009-12-09) | |
국제공개번호 | WO 2010/073514 (2010-07-01) | |
번역문제출일자 | 2011-06-14 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020117013611 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-10-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
사용 개시 당초로부터, 처리해야할 기판인 웨이퍼(W)의 이탈 불량이 발생하기 어렵고 생산성이 좋은 정전척용의 척 플레이트의 제조방법을 제공한다. 전극(3a, 3b)을 가지는 척 본체(1)의 표면을 덮는 유전체로 된 정전척(ES)용의 척 플레이트(2)의 제조 방법으로, 원료 분말을 소정 형상으로 압축 성형한 후, 소결하여 소결체를 얻는 공정과, 소결체 중, 흡착해야 할 기판이 접하는 표면을 연마 가공에 의해 소정의 표면 거칠기 및 평탄도로 형성하는 공정과, 연마가공에 수반하여 상기 표면에 생긴 분리되기 시작하고 있는 입자만을 선택적으
전극을 가지는 척 본체의 표면을 덮는 유전체로 된 정전척용의 척 플레이트의 제조 방법으로,원료 분말을 소정 형상으로 압축 성형한 후, 소결하여 소결체를 얻는 공정과,상기 소결체 중, 흡착해야 할 기판이 접하는 표면을 연마 가공에 의해 소정의 표면 거칠기 및 평탄도로 형성하는 공정과, 상기 연마가공에 수반하여 상기 표면에 생긴 분리되기 시작하고 있는 입자만을 선택적으로 제거하는 블라스트 처리를 실시하는 공정을 포함하되,상기 블라스트 처리는 습식 블라스트인 것을 특징으로 하는 정전척용의 척 플레이트의 제조 방법.
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