[특허]네거티브톤 현상용 레지스트 조성물 및 이것을 사용한 패턴 형성방법

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네거티브톤 현상용 레지스트 조성물 및 이것을 사용한 패턴 형성방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)	G03F-007/027 G03F-007/004
출원번호	10-2011-7019669 (2011-08-24)
공개번호	10-2011-0136796 (2011-12-21)
국제출원번호	PCT/JP2010/053375 (2010-02-24)
국제공개번호	WO2010098493 (2010-09-02)
번역문제출일자	2011-08-24
DOI	http://doi.org/10.8080/1020117019669
발명자 / 주소	카미무라 소우 / 일본 시즈오카켄 하이바라군 요시다초 카와시리 ** 후지필름 가부시키가이샤 나이 타루타니 신지 / 일본 시즈오카켄 하이바라군 요시다초 카와시리 ** 후지필름 가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소	후지필름 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 니시 아자부 쵸메 방 *고
대리인 / 주소	하영욱
심사진행상태	거절결정(재심사)
법적상태	거절

초록

(A) 하기 일반식(1)으로 표시되는 산분해성 반복단위를 갖고 산의 작용에 의해 네가티브 현상액에서의 용해도가 감소할 수 있는 수지를 포함하는 네거티브톤 현상용 레지스트 조성물을 제공한다.일반식(1) 중, Xa1은 수소 원자, 알킬기, 시아노기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ry1~Ry3은 각각 독립적으로 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, Ry1~Ry3 중 2개 이상이 서로 결합해서 환 구조를 형성해도 좋고, Z는 2가의 연결기를 나타낸다.

대표청구항

(A) 하기 일반식(1)으로 표시되는 산분해성 반복단위를 갖고 산의 작용에 의해 네가티브 현상액에서의 용해도가 감소할 수 있는 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 네거티브톤 현상용 레지스트 조성물.[일반식(1) 중,Xa1은 수소 원자, 알킬기, 시아노기 또는 할로겐 원자를 나타내고,Ry1~Ry3은 각각 독립적으로 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, Ry1~Ry3 중 2개 이상이 서로 결합해서 환 구조를 형성해도 좋고,Z는 2가의 연결기를 나타낸다.]

이 특허에 인용된 특허 (2)

[미국] PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR MULTIPLE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD | TSUBAKI,Hideaki, KANNA,Shinichi
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[일본] METHOD OF FORMING PATTERN | TARUYA SHINJI, WADA KENJI, TSUBAKI HIDEAKI
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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