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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-7019669 (2011-08-24) |
공개번호 | 10-2011-0136796 (2011-12-21) |
국제출원번호 | PCT/JP2010/053375 (2010-02-24) |
국제공개번호 | WO2010098493 (2010-09-02) |
번역문제출일자 | 2011-08-24 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020117019669 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(재심사) |
법적상태 | 거절 |
(A) 하기 일반식(1)으로 표시되는 산분해성 반복단위를 갖고 산의 작용에 의해 네가티브 현상액에서의 용해도가 감소할 수 있는 수지를 포함하는 네거티브톤 현상용 레지스트 조성물을 제공한다.일반식(1) 중, Xa1은 수소 원자, 알킬기, 시아노기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ry1~Ry3은 각각 독립적으로 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, Ry1~Ry3 중 2개 이상이 서로 결합해서 환 구조를 형성해도 좋고, Z는 2가의 연결기를 나타낸다.
(A) 하기 일반식(1)으로 표시되는 산분해성 반복단위를 갖고 산의 작용에 의해 네가티브 현상액에서의 용해도가 감소할 수 있는 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 네거티브톤 현상용 레지스트 조성물.[일반식(1) 중,Xa1은 수소 원자, 알킬기, 시아노기 또는 할로겐 원자를 나타내고,Ry1~Ry3은 각각 독립적으로 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타내고, Ry1~Ry3 중 2개 이상이 서로 결합해서 환 구조를 형성해도 좋고,Z는 2가의 연결기를 나타낸다.]
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