신규한, 습식 현상가능 무반사코팅 조성물 및 상기 조성물을 이용하는 방법이 제공된다. 상기 조성물은 가교제 및 광산발생제와 함께, 산 작용기를 가지며 용매 시스템에 용해되는 폴리머 및/또는 올리고머를 포함한다. 바람직한 산 작용기는 카르복시산이며, 반면 바람직한 가교제는 비닐 에테르 가교제이다. 사용에 있어서, 상기 조성물은 기판에 도포되고, 열 가교결합 된다. 빛에 노출되면, 상기 경화된 조성물은 가교결합이 분해되고, 전형적인 광 현상 용액(예를 들면, 알칼리성 현상액)에 용해될 것이다.
대표청구항▼
다음 단계를 포함하는 마이크로전자구조체 형성 방법:표면을 갖는 기판을 제공하는 단계;조성물을 상기 표면에 도포하는 단계, 여기서 상기 조성물은:폴리머, 올리고머, 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되는 화합물, 여기서 상기 폴리머는지방족 폴리머, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 노볼락, 폴리아믹산, 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되고, 상기 올리고머는 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 노볼락, 이소시아누레이트, 글리시딜 에테르 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되고, 상기 화합
다음 단계를 포함하는 마이크로전자구조체 형성 방법:표면을 갖는 기판을 제공하는 단계;조성물을 상기 표면에 도포하는 단계, 여기서 상기 조성물은:폴리머, 올리고머, 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되는 화합물, 여기서 상기 폴리머는지방족 폴리머, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 노볼락, 폴리아믹산, 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되고, 상기 올리고머는 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 노볼락, 이소시아누레이트, 글리시딜 에테르 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되고, 상기 화합물은 페놀 기를 제외한 산 기를 포함하고 상기 화합물은 보호된 산 기과 보호되지 않은 산 기의 조합을 포함하고, 보호된 산 기 대 보호되지 않은 산 기의 몰 비율은 1 :3 내지 3:1임;발색단;비닐 에테르 가교결합제; 및용매, 여기서 상기 화합물, 발색단 및 가교결합단은 이 용매에 용해되거나 분산됨;을 포함함; 및상기 화합물을 상기 조성물 내에서 가교 결합시켜 사용되는 파장에서 적어도 0.1의 k 값을 갖는 가교결합된 조성물을 수득하는 단계.
발명자의 다른 특허 :
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이 특허에 인용된 특허 (3)
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Acid sensitive ARC and method of use |
Holmes Steven J.,
Rabidoux Paul A.
[미국]
Bottom anti-reflective coating material composition for photoresist and method of forming resist pattern using the same |
Kazuyoshi Mizutani JP,
Makoto Momota JP
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