초록 ▼

본 발명은 플라즈마 처리 대상 소재의 플라즈마 처리를 위한 통과 경로가 반응기 내에서 나선형으로 연장되는 경로 형태를 갖도록 하고, 반응기 내에서 처리 대상 소재의 나선형 경로와 밀착하여 고전압 발생용 전극이 나선형으로 연장될 수 있도록 하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다. 이를 위해 본 발명은 일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널을 형성하여 상기 출구부를 통해 전기적, 물리

본 발명은 플라즈마 처리 대상 소재의 플라즈마 처리를 위한 통과 경로가 반응기 내에서 나선형으로 연장되는 경로 형태를 갖도록 하고, 반응기 내에서 처리 대상 소재의 나선형 경로와 밀착하여 고전압 발생용 전극이 나선형으로 연장될 수 있도록 하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다. 이를 위해 본 발명은 일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널을 형성하여 상기 출구부를 통해 전기적, 물리적 특성이 변환된 물질을 반출하는 반응기; 상기 입구부를 통해 상기 반응기의 내부로 특정 처리 대상 소재를 일정하게 공급하는 소재 공급부; 상기 소재 공급부와는 별도로 구비되어 상기 입구부를 통해 상기 반응기의 내부로 처리 가스를 일정하게 공급하는 가스 공급부;상기 반응기의 내부에 일정한 전원을 인가하여, 상기 입구부로부터 출구부 측까지 연장되는 나선 형상의 처리 채널을 형성하고 그 처리 채널을 따라 이동하는 처리 대상 소재 및 처리 가스가 플라즈마 반응을 발생시키도록 하는 전원 공급부; 상기 전원 공급부의 양단과 각각 연결된 서로 다른 극성의 제1 전극 및 제2 전극이 상기 반응기 내부의 입구부측으로부터 출구부측에 나선 형상의 처리 채널을 형성하고, 상기 제1 전극 및 제2 전극에 의해 형성되는 처리 채널들 사이에 처리 대상 소재와 처리 가스를 주입하여 플라즈마 방전 반응을 발생시키기 위하여 고전압을 공급하는 제1 및 제2 전극부; 및 상기 반응기 내의 제1 및 제2 전극부를 통하여 공급된 고전압에 의하여 형성된 처리 채널 내에서 플라즈마 방전이 발생하고 플라즈마에 의하여 처리 대상 소재를 플라즈마 처리함에 따라 전기적, 물리적 특성으로 변환되어 출구부를 통해 반출되는 처리 물질을 수취하는 수취부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부(42)를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널(56)(57)을 형성하여 상기 출구부(44)를 통해 전기적, 물리적 특성이 변환된 물질을 반출하는 반응기(30); 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 대상 소재를 일정하게 공급하는 소재 공급부(10);상기 소재 공급부(10)와는 별도로 구비되어 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 가스를 공

일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부(42)를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널(56)(57)을 형성하여 상기 출구부(44)를 통해 전기적, 물리적 특성이 변환된 물질을 반출하는 반응기(30); 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 대상 소재를 일정하게 공급하는 소재 공급부(10);상기 소재 공급부(10)와는 별도로 구비되어 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 가스를 공급하는 가스 공급부(20); 상기 반응기(30)의 내부에 일정한 전원을 인가하여 상기 입구부(42)로부터 출구부(44)측 까지 연장되는 나선 형상의 처리 채널(56)(57)을 형성하고 그 처리 채널(56)(57)을 따라 이동하는 처리 대상 소재 및 처리 가스가 플라즈마 반응을 발생시키도록 하는 전원 공급부(50); 상기 전원 공급부(50)의 양단과 각각 연결된 서로 다른 극성의 제1 전극(58a) 및 제2 전극(59a)이 상기 반응기(30) 내부의 입구부(42)측으로부터 출구부(44)측에 나선 형상의 처리 채널(56)(57)을 형성하고, 상기 제1 전극(58a) 및 제2 전극(59a)에 의해 형성되는 처리 채널들 사이에 처리 대상 소재와 처리 가스를 주입하여 플라즈마 방전 반응을 발생시키기 위하여 고전압을 공급하는 제1 및 제2 전극부(52)(54); 상기 반응기(30) 내의 제1 및 제2 전극부(52)(54)를 통하여 공급된 고전압에 의하여 형성된 처리 채널 내에서 플라즈마 방전이 발생하고 플라즈마에 의하여 처리 대상 소재를 플라즈마 처리함에 따라 전기적, 물리적 특성으로 변환되어 출구부(44)를 통해 반출되는 처리 물질을 수취하는 수취부(60);를 포함하여 구성되고,상기 반응기(30)는 상기 입구부로부터 출구부까지 연통되어 있는 상태에서 상기 나선 형상의 처리 채널을 형성하는 제1 및 제2 전극부(52)(54)가 서로 밀착되어 연장 설치되어 있는 내부 공간부(31), 상기 내부 공간부(31)의 외면에 보호 외피로서 설치되는 외부 실린더, 상기 외부 실린더와의 사이에서 상기 내부 공간부(31)를 형성하도록 내면에 설치되어 있는 원통형 또는 원기둥형의 내부 실린더(40);를 포함하여 구성되고, 상기 내부 공간부(31)에는 상기 제1 전극부(52)와 제2 전극부(54)가 서로 이격 거리를 두고 해당 내부 공간부(31)의 전면으로부터 후면까지 상기 내부 실린더(40)의 원통형 또는 원기둥형 외면을 따라 일정한 나선 형상으로 각각 길게 연장되어 고정 설치되며,상기 제1 전극부(52)와 상기 제2 전극부(54)와의 이격 거리를 차지하는 공간부가 상기 처리 대상 소재 및 처리 가스가 각각 별도로 통과하는 개별적인 제1 처리 채널과 제2 처리 채널을 형성하도록 구성되고, 상기 제1 및 제2 전극부(52)(54)는 제1 전극(58a)과 제2 전극(59a) 각각이 제1 유전체층(58b)과 제2 유전체층(59b)에 의해 둘러싸여 있으며, 상기 제1 유전체층(58b)과 상기 제2 유전체층(59b)이 상기 내부 공간부(31) 내에서 나선 형상으로 연장되는 제1 전극부(52) 및 제2 전극부(54) 사이에 형성되는 처리 채널을 각각 밀폐시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.