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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0016904 (2012-02-20) | |
공개번호 | 10-2013-0095459 (2013-08-28) | |
등록번호 | 10-1374627-0000 (2014-03-10) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120016904 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-02-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 플라즈마 처리 대상 소재의 플라즈마 처리를 위한 통과 경로가 반응기 내에서 나선형으로 연장되는 경로 형태를 갖도록 하고, 반응기 내에서 처리 대상 소재의 나선형 경로와 밀착하여 고전압 발생용 전극이 나선형으로 연장될 수 있도록 하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것이다. 이를 위해 본 발명은 일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널을 형성하여 상기 출구부를 통해 전기적, 물리
일단에 입구부(Inlet)를 구비함과 동시에 타단에 출구부(Outlet)를 구비하고, 상기 입구부(42)를 통해 공급되는 처리 대상 소재 및 처리 가스를 나선 형상으로 통과시켜 처리하는 처리 채널(56)(57)을 형성하여 상기 출구부(44)를 통해 전기적, 물리적 특성이 변환된 물질을 반출하는 반응기(30); 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 대상 소재를 일정하게 공급하는 소재 공급부(10);상기 소재 공급부(10)와는 별도로 구비되어 상기 입구부(42)를 통해 상기 반응기(30)의 내부로 처리 가스를 공
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