초록 ▼

본 발명은 반도체 및 태양광 실리콘 웨이퍼 제조시 발생되는 폐 슬러지로부터 유효성분들을 회수하는 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 및 태양광 실리콘 웨이퍼 제조공정 중에 발생하는 절삭유, 연마재(SiC), 실리콘(Si) 분말 및 금속(주로 Fe) 분말이 함유된 가공 슬러리(Used Slurry)로부터 1, 2차 원심분리기를 통하여 연마재(SiC)와 절삭유를 1차적으로 회수한 후 발생된, 최종적으로 지정폐기물로 폐기처분되는 폐 슬러지(Sludge)를 마이크로파를 발생시키는 마그네트론이 설치된 건조기 내에서 마

본 발명은 반도체 및 태양광 실리콘 웨이퍼 제조시 발생되는 폐 슬러지로부터 유효성분들을 회수하는 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 및 태양광 실리콘 웨이퍼 제조공정 중에 발생하는 절삭유, 연마재(SiC), 실리콘(Si) 분말 및 금속(주로 Fe) 분말이 함유된 가공 슬러리(Used Slurry)로부터 1, 2차 원심분리기를 통하여 연마재(SiC)와 절삭유를 1차적으로 회수한 후 발생된, 최종적으로 지정폐기물로 폐기처분되는 폐 슬러지(Sludge)를 마이크로파를 발생시키는 마그네트론이 설치된 건조기 내에서 마이크로파를 이용하여 절삭유를 기화시켜 고순도로 회수하고, 건조된 고형분은 성분별로 분리, 고순도화하여 산업용 소재로 재활용 함으로써환경오염 문제를 원천적으로 해결하고 제조공정의 단순화, 에너지 효율화를 기하면서 고순도의 실리콘(Si) 분말이나 연마재(SiC), 절삭유 등의 유효성분들을 회수하는 방법 및 장치에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

폐 슬러지를 원료 호퍼에 투입하는 단계; 호퍼에 투입된 폐 슬러지를 호퍼 하단부에 부착된 1축 또는 2축 스크루를 이용하여 불활성 기체가 충진된 1차 건조기 내부로 이송하여 마그네트론(3)에서 발생되는 마이크로파를 이용하여 1차적으로 건조하는 단계; 1차 건조단계에서 기화하는 성분들을 응축시키는 단계; 1차 건조된 폐 슬러지를 불활성 기체가 충진된 2차 건조기에서 마그네트론(3)에서 발생되는 마이크로파를 이용하여 건조하는 단계; 2차 건조 단계에서 기화하는 성분들을 응축하는 단계; 저장조에 포집된 고형분을 포장 또는 저장 사일로로

폐 슬러지를 원료 호퍼에 투입하는 단계; 호퍼에 투입된 폐 슬러지를 호퍼 하단부에 부착된 1축 또는 2축 스크루를 이용하여 불활성 기체가 충진된 1차 건조기 내부로 이송하여 마그네트론(3)에서 발생되는 마이크로파를 이용하여 1차적으로 건조하는 단계; 1차 건조단계에서 기화하는 성분들을 응축시키는 단계; 1차 건조된 폐 슬러지를 불활성 기체가 충진된 2차 건조기에서 마그네트론(3)에서 발생되는 마이크로파를 이용하여 건조하는 단계; 2차 건조 단계에서 기화하는 성분들을 응축하는 단계; 저장조에 포집된 고형분을 포장 또는 저장 사일로로 이송하는 단계; 로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 및 태양광 실리콘 웨이퍼 제조시 발생되는 폐 슬러지로부터 유효성분들을 회수하는 방법.