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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0043861 (2012-04-26) | |
공개번호 | 10-2013-0120741 (2013-11-05) | |
등록번호 | 10-1373714-0000 (2014-03-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120043861 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-04-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 시트로넬릭산, 그 유도체 또는 이들의 염을 유효성분으로 포함하는 각화막 형성 촉진용 조성물에 대한 것이다. 또한 본 발명은 카페인산, 그 유도체 또는 이들의 염을 유효성분으로 포함하는 각화막 형성 촉진용 조성물에 대한 것이다.
하기 화학식 4로 표시되는 카페인산, 그 유도체 또는 이들의 염을 유효성분으로 포함하는 각화막 형성 촉진용 화장료 조성물:<화학식 4>이때, 상기 R1 또는 R2는 서로 독립적으로 수소, 하이드록시기 또는 탄소수 5 이하의 알콕시임.
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