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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0066622 (2012-06-21) | |
공개번호 | 10-2013-0143247 (2013-12-31) | |
등록번호 | 10-1353043-0000 (2014-01-13) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120066622 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-06-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 및 FPD(Flat Panel Display) 제조공정에서 기판의 표면을 세정하는 분사장치의 노즐에 관한 기술로서, 분사노즐에 끼는 슬러지에 고압으로 에어를 분사하면서 짧은 시간에 주기적으로 에어충격을 가하여 슬러지를 효과적으로 제거하므로 분사노즐이 막히는 것을 방지함에 따라 세정공정의 효율과 제품의 생산성을 높이는 한편 제품의 불량률을 감소시키는 분사노즐 막힘 방지장치에 관한 것이다.이러한 본 발명의 실시예에 따른 주요 구성은 세정액이 펌핑되는 분사관과; 상기 분사관에 일정한 간격으로 설치되는 다수개의 노즐과;
세정액이 펌핑되는 분사관(10)과; 상기 분사관(10)에 일정한 간격으로 설치되는 다수개의 노즐(20)과; 상기 노즐(20)의 대향쪽에 위치하도록 분사관(10)에 설치되고, 고압으로 에어가 공급되는 에어관(32)이 설치된 에어하우징(30)과; 상기 에어하우징(30)의 플랜지(31)에 결합 설치되고, 작동로드(41)가 에어하우징(30)과 분사관(10) 안으로 관통하여 설치된 액츄에이터(40);를 포함하고,상기 액츄에이터(40)의 작동로드(41)는 내부에 중공으로 분사공(43)이 형성되고, 에어하우징(30)의 내부공간에 위치하도록 외주
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