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연합인증

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신규 텅스텐 착화합물 및 이를 이용한 환상올레핀계 고분자 화합물의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C07F-011/00
  • B01J-031/22
  • C08F-010/00
  • C08F-004/22
출원번호 10-2012-0085083 (2012-08-03)
공개번호 10-2014-0018660 (2014-02-13)
등록번호 10-1595606-0000 (2016-02-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120085083
발명자 / 주소
  • 박원진 / 경남 창원시 성산구 안민로 ***, ***동 ***호 (안민동, 한솔마을대동아파트)
  • 성종언 / 인천 계양구 주부토로***번길 **, ***동 ***호 (작전동, 삼보아파트)
  • 황운성 / 경기 김포시 유현로 **, ***동 ***호 (풍무동, 유현마을현대프라임빌아파트)
  • 이용희 / 인천광역시 연수구 새말로 *** 연수주공*차아파트 ***동 ****호
  • 박준범 / 경북 포항시 북구 대해로 **, 나동 ***호 (죽도동, 크로바아파트)
  • 이효선 / 대구 북구 동북로 ***, ***동 ***호 (산격동, 산격대우아파트)
출원인 / 주소
  • 코오롱인더스트리 주식회사 / 경기도 과천시 코오롱로 **(별양동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 해담
심사청구여부 있음 (2014-04-18)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 신규 텅스텐 착화합물 및 이를 이용한 환상올레핀계 고분자 화합물의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 열에 안정하면서도, 중합 활성화가 매우 높아 중합유도시간이 짧고, 높은 수율 환상올레핀계 고분자 화합물을 수득할 수 있는 신규 텅스텐 착화합물 및 이를 이용한 환상올레핀계 고분자 화합물의 제조방법을 제공한다.

대표청구항

하기 화학식 1로 표시되는 텅스텐 착화합물:[화학식 1]화학식 1에서, R1 및 R2가 메틸기이고, X는 염소 원자이며, 점선은 결합의 존재를 표시함.

발명자의 다른 특허 :

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