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연합인증

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변성 노볼락형 페놀 수지 및 그 제조 방법, 및 레지스트 재료 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08G-008/28
  • C08G-010/04
  • C08G-014/12
  • G03F-007/004
출원번호 10-2012-0119254 (2012-10-25)
공개번호 10-2013-0045224 (2013-05-03)
등록번호 10-1876817-0000 (2018-07-04)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2011-233901 (2011-10-25);일본(JP) JP-P-2012-176987 (2012-08-09)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120119254
발명자 / 주소
  • 히라노 요시노리 / 일본 군마켄 안나카시 마쓰이다마치 히토미 *반치 ** 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 덴시 자이료 기쥬쓰 겐큐쇼내
  • 야나기사와 히데요시 / 일본 군마켄 안나카시 마쓰이다마치 히토미 *반치 ** 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 덴시 자이료 기쥬쓰 겐큐쇼내
출원인 / 주소
  • 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
대리인 / 주소
  • 유미특허법인
심사청구여부 있음 (2017-07-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 노볼락형 페놀 수지에 가교제를 반응시켜 얻어지는 변성 노볼락형 페놀 수지이다.본 발명의 변성 노볼락형 페놀 수지의 합성 방법을 행함으로써, 기존의 p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 노볼락형 페놀 수지의 분자량을 고분자량화하여, 포토레지스트용 페놀 수지로서 유용한 내열성이 있는 변성 노볼락형 페놀 수지를 얻을 수 있는 효과가 있다.

대표청구항

p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 페놀류와 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 노볼락형 페놀 수지(A), 또는 p-크레졸과 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 p-크레졸 노볼락 수지(b-1) 50 질량% 이상과 p-크레졸 이외의 페놀류와 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 다른 노볼락형 페놀 수지(b-2) 잔량의 혼합물(B)에, 포르말린 또는 포르말린-알코올에 의해 변성된 아미노 축합물, 1분자 중에 평균적으로 2개 이상의 메틸올기 또는 알콕시메틸올기를 가지는 페놀 화합물, 및 1분자 중에 평균적으로 2개 이상의 에폭시기를 가지는 에폭시

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM | KASHIWAGI MOTOFUMI
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