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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0119254 (2012-10-25) | |
공개번호 | 10-2013-0045224 (2013-05-03) | |
등록번호 | 10-1876817-0000 (2018-07-04) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2011-233901 (2011-10-25);일본(JP) JP-P-2012-176987 (2012-08-09) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120119254 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-07-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 노볼락형 페놀 수지에 가교제를 반응시켜 얻어지는 변성 노볼락형 페놀 수지이다.본 발명의 변성 노볼락형 페놀 수지의 합성 방법을 행함으로써, 기존의 p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 노볼락형 페놀 수지의 분자량을 고분자량화하여, 포토레지스트용 페놀 수지로서 유용한 내열성이 있는 변성 노볼락형 페놀 수지를 얻을 수 있는 효과가 있다.
p-크레졸을 50 질량% 이상 함유하는 페놀류와 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 노볼락형 페놀 수지(A), 또는 p-크레졸과 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 p-크레졸 노볼락 수지(b-1) 50 질량% 이상과 p-크레졸 이외의 페놀류와 알데히드류의 축합에 의해 얻어진 다른 노볼락형 페놀 수지(b-2) 잔량의 혼합물(B)에, 포르말린 또는 포르말린-알코올에 의해 변성된 아미노 축합물, 1분자 중에 평균적으로 2개 이상의 메틸올기 또는 알콕시메틸올기를 가지는 페놀 화합물, 및 1분자 중에 평균적으로 2개 이상의 에폭시기를 가지는 에폭시
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