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연합인증

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패턴 생성을 위한 미세 방전가공방법 및 이를 위한 방전가공 시스템 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B23H-009/00
  • B23H-001/04
출원번호 10-2012-0120599 (2012-10-29)
공개번호 10-2014-0056555 (2014-05-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120120599
발명자 / 주소
  • 김보현 / 서울특별시 서초구 방배*동 금강KCC아파트 ***동 ***호
  • 문인용 / 경기 수원시 장안구 하률로**번길 **, ***동 ****호 (천천동, 신안한일아파트)
출원인 / 주소
  • 숭실대학교산학협력단 / 서울특별시 동작구 상도로 *** (상도동)
대리인 / 주소
  • 송경근
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 미세 패턴을 효율적으로 생성할 수 있는 방전가공방법 및 방전가공 시스템에 관한 것이다.본 발명에 따른 방전가공 시스템은 가공대상물이 설치되며, 수평 방향으로 이동가능하게 배치되는 스테이지와, 가공대상물과 이격되게 배치되며, 가공대상물과의 사이에 방전을 일으키는 방전가공전극과, 가공대상물을 방전가공전극에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 진동시키는 진동유닛을 포함한다.

대표청구항

가공대상물이 설치되며, 수평 방향으로 이동가능하게 배치되는 스테이지;상기 가공대상물과 이격되게 배치되며, 상기 가공대상물과의 사이에 방전을 일으키는 방전가공전극; 및상기 가공대상물을 상기 방전가공전극에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 진동시키는 진동유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 방전가공 시스템.

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