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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0120599 (2012-10-29) | |
공개번호 | 10-2014-0056555 (2014-05-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120120599 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 미세 패턴을 효율적으로 생성할 수 있는 방전가공방법 및 방전가공 시스템에 관한 것이다.본 발명에 따른 방전가공 시스템은 가공대상물이 설치되며, 수평 방향으로 이동가능하게 배치되는 스테이지와, 가공대상물과 이격되게 배치되며, 가공대상물과의 사이에 방전을 일으키는 방전가공전극과, 가공대상물을 방전가공전극에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 진동시키는 진동유닛을 포함한다.
가공대상물이 설치되며, 수평 방향으로 이동가능하게 배치되는 스테이지;상기 가공대상물과 이격되게 배치되며, 상기 가공대상물과의 사이에 방전을 일으키는 방전가공전극; 및상기 가공대상물을 상기 방전가공전극에 대하여 접근 및 이격되는 방향으로 진동시키는 진동유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 방전가공 시스템.
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