초록 ▼

본 발명은 크롬프리 전처리제 및 이를 이용한 도장강판 제조방법에 관한 것으로서, 실리카졸, 용제, 수분산 나노 실리카, 무기화합물, 표면장력조정제, 가교제를 포함하는 크롬프리 전처리제를 제공함으로써, 프라이머를 사용하지 않고도 내식성, 내화학성 및 도장밀착성이 향상되도록 하는 것을 그 목적으로 한다.이를 위해 본 발명은, 실리카졸 5~8중량%, 용제 19~23중량%, 수분산 나노 실리카 5~8중량%, 무기화합물 0.3~0.8중량%, 표면장력조정제 0.01~0.05중량%, 가교제 1~5중량% 및 물 60~65중량%로 조성되고, 각 성

본 발명은 크롬프리 전처리제 및 이를 이용한 도장강판 제조방법에 관한 것으로서, 실리카졸, 용제, 수분산 나노 실리카, 무기화합물, 표면장력조정제, 가교제를 포함하는 크롬프리 전처리제를 제공함으로써, 프라이머를 사용하지 않고도 내식성, 내화학성 및 도장밀착성이 향상되도록 하는 것을 그 목적으로 한다.이를 위해 본 발명은, 실리카졸 5~8중량%, 용제 19~23중량%, 수분산 나노 실리카 5~8중량%, 무기화합물 0.3~0.8중량%, 표면장력조정제 0.01~0.05중량%, 가교제 1~5중량% 및 물 60~65중량%로 조성되고, 각 성분들의 비율은 총 100중량%가 되도록 선택하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

대표청구항

실리카졸 5~8중량%, 용제 19~23중량%, 수분산 나노 실리카 5~8중량%, 무기화합물 0.3~0.8중량%, 표면장력조정제 0.01~0.05중량%, 가교제 1~5중량% 및 물 60~65중량%로 조성되고, 각 성분들의 비율은 총 100중량%가 되도록 선택하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 크롬프리 전처리제.

실리카졸 5~8중량%, 용제 19~23중량%, 수분산 나노 실리카 5~8중량%, 무기화합물 0.3~0.8중량%, 표면장력조정제 0.01~0.05중량%, 가교제 1~5중량% 및 물 60~65중량%로 조성되고, 각 성분들의 비율은 총 100중량%가 되도록 선택하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 크롬프리 전처리제.