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연합인증

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피부 자극이 저감된 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • A61K-008/37
  • A61K-008/30
  • A61Q-019/00
출원번호 10-2012-0122886 (2012-11-01)
공개번호 10-2014-0055689 (2014-05-09)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120122886
발명자 / 주소
  • 박수민 / 서울 금천구 가산디지털*로 ***, ****호 (가산동, 제이플라츠)
  • 이승연 / 서울 금천구 가산디지털*로 ***, ****호 (가산동, 제이플라츠)
  • 최봉기 / 서울 금천구 가산디지털*로 ***, ****호 (가산동, 제이플라츠)
  • 한현탁 / 서울 금천구 가산디지털*로 ***, ****호 (가산동, 제이플라츠)
  • 조진훈 / 서울 금천구 가산디지털*로 ***, ****호 (가산동, 제이플라츠)
출원인 / 주소
  • 코웨이 주식회사 / 충청남도 공주시 유구읍 유구마곡사로 ***-**
대리인 / 주소
  • 특허법인 신우
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 아크릴계 공중합체 필름 형성용 수지와 유기산을 포함하는 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물로서, 상기 조성물은 액화 가스를 포함하지 않아도 폼이 안정하게 형성 및 유지되어, 피부에 대고 문지른 후 각질 고마쥬 타입으로 각질을 제거할 수 있어 피부에 대한 자극이 적을 뿐만 아니라 각질 제거 속도를 적절히 조절할 수 있으며, 피부 거침, 피부톤 불균형, 및 피부 각화 현상을 억제하고 피부 턴오버를 촉진하여 더욱 좋은 피부 구현을 가능케 한다.

대표청구항

수상부 내에 아크릴계 공중합체 필름 형성용 수지와 유기산 및 물을 잔부로 포함하는 것을 특징으로 하는 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 클렌징 겸용 피부 각질 제거용 화장료 조성물 | 김민재, 김재영, 이광식, 이건국
    상세보기
  2. [한국] 피부 각질 제거용 화장료 조성물 | 박현정, 김기선, 김연준, 유권종
    상세보기

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