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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2012-0144754 (2012-12-12) | |
| 공개번호 | 10-2014-0076330 (2014-06-20) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020120144754 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
| 법적상태 | 취하 |
균형 자세 확인 시스템이 개시된다. 이 균형 자세 확인 시스템은 사용자의 얼굴에 착용되어 사용자가 주시하는 지점으로 광을 송신하는 광송신부; 및 상기 사용자의 발이 위치되며 상기 사용자의 발 크기에 대응하고 상기 사용자가 허리를 특정한 기울기로 기울인 경우 상기 광 송신부에서 송신된 광이 입사되는 균형 자세 표시부를 구비한 발판을 포함하고, 상기 균형 자세 표시부는 발의 크기에 대응한 복수의 발광마커로 이루어지고, 상기 사용자의 발이 상기 사용자의 발 크기에 대응하는 위치에 위치하는 경우 상기 복수의 발광마커 중 상기 사용자의 발
사용자의 얼굴에 착용되어 사용자가 주시하는 지점으로 광을 송신하는 광송신부; 및 상기 사용자의 발이 위치되며 상기 사용자의 발 크기에 대응하고 상기 사용자가 허리를 특정한 기울기로 기울인 경우 상기 광 송신부에서 송신된 광이 입사되는 균형 자세 표시부를 구비한 발판을 포함하고, 상기 균형 자세 표시부는 발의 크기에 대응한 복수의 발광마커로 이루어지고, 상기 사용자의 발이 발의 크기에 대응하는 위치에 위치되는 경우 상기 복수의 발광마커 중 상기 사용자의 발의 크기에 대응하는 발광마커가 발광하는 균형 자세 확인 시스템.
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