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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0152432 (2012-12-24) | |
등록번호 | 10-1394617-0000 (2014-05-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120152432 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-12-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 (a) 은과 카드뮴을 함께 용융하여 은-카드뮴 합금을 주조하는 단계; (b) 원형 빌렛으로 주조된 은-카드뮴 합금을 열간 압출하여 합금 스트립으로 제조하는 단계; (c) 순수 은 스트립과 (b)단계에서 제조된 은-카드뮴 스트립을 진공 분위기에서 표면에 플라즈마를 조사하고 적층 한 후 냉간 압연하여 은-카드뮴 합금 층과 순수 은 층으로 구성된 2층 구조의 클래드 스트립을 제조하는 단계; (d) 2층 구조의 클래드 스트립을 열간 압연하는 단계; (e) (d)단계에 제조된 2층 구조의 클래드 스트립을 열처리하는 단계; (f)
(a) 은과 카드뮴을 함께 용융하여 은-카드뮴 합금을 주조하는 단계;(b) 원형 빌렛으로 주조된 은-카드뮴 합금을 열간 압출하여 합금 스트립으로 제조하는 단계;(c) 순수 은 스트립과 상기 (b)단계에서 제조된 은-카드뮴 스트립을 진공 분위기에서 표면에 플라즈마를 조사하고 적층 한 후 냉간 압연하여 은-카드뮴 합금 층과 순수 은 층으로 구성된 2층 구조의 클래드 스트립을 제조하는 단계;(d) 2층 구조의 클래드 스트립을 열간 압연하는 단계;(e) 상기 (d)단계에서 제조된 2층 구조의 클래드 스트립을 진공열처리하는 단계;(f) 상기
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