최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2012-0158207 (2012-12-31) | |
등록번호 | 10-1396250-0000 (2014-05-12) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120158207 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2012-12-31) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 산화 세륨 연마제와 이를 포함하는 슬러리 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따라 금속염에 염기성 물질 및 유기용매를 혼합한 후 건조 및 하소 공정을 통해 세륨계 연마입자의 입자 특성을 조절함과 동시에 슬러리 제조 시에 세륨계 연마입자의 입도 분포 및 산포를 줄일 수 있다.또한, 거대 입자나 미세분말을 포함하지 않는 연마입자를 신속하게 얻는 것이 가능하고, 상기 세륨계 연마입자를 이용하여, 적절한 연마 속도를 유지하면서, 스크래치의 발생을 감소시키고, 반도체 표면을 정밀하게 연마 가능한 슬러리를 제공할 수 있다
세륨계 연마입자의 제조방법으로서,금속염, 염기성 물질 및 유기용매를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계;를 포함하고,상기 세륨계 연마입자는, X선 회절 분석법에 의한 XRD 패턴의 (200)면의 피크 면적에 대한 (111)면의 피크 면적으로 정의되는 피크 면적비가 0.5 내지 4.5인, 세륨계 연마입자의 제조방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.