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연합인증

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열처리 장치 및 열처리 장치의 제어 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/205
  • C23C-016/46
  • C23C-016/52
출원번호 10-2013-0002791 (2013-01-10)
공개번호 10-2013-0089586 (2013-08-12)
등록번호 10-1654631-0000 (2016-08-31)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2012-020811 (2012-02-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020130002791
발명자 / 주소
  • 다카하시 고로 / 일본국 이와테켄 오슈시 에사시쿠 이와야도 아자 마츠나가네 ** 도쿄 엘렉트론 도호쿠 가부시키가이샤 나이
  • 가사이 타카히토 / 일본국 이와테켄 오슈시 에사시쿠 이와야도 아자 마츠나가네 ** 도쿄 엘렉트론 도호쿠 가부시키가이샤 나이
  • 사이토 타카노리 / 일본국 이와테켄 오슈시 에사시쿠 이와야도 아자 마츠나가네 ** 도쿄 엘렉트론 도호쿠 가부시키가이샤 나이
  • 왕 웬링 / 일본국 이와테켄 오슈시 에사시쿠 이와야도 아자 마츠나가네 ** 도쿄 엘렉트론 도호쿠 가부시키가이샤 나이
  • 요시이 코지 / 일본국 이와테켄 오슈시 에사시쿠 이와야도 아자 마츠나가네 ** 도쿄 엘렉트론 도호쿠 가부시키가이샤 나이
  • 야마구치 타츠야 / 일본국 홋카이도 삿포로시 츄오쿠 키타*조 니시*쵸메 니혼세이메이 삿포로 빌딩 **층 도쿄 엘렉트론 소프트웨어 테크놀로지즈 가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소
  • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 아카사카 *쵸메 *반 *고
대리인 / 주소
  • 이철
심사청구여부 있음 (2014-06-27)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

(과제) 소망하는 열처리 조건에 따라서, 최적의 온도 특성을 실현 가능한, 열처리 장치를 제공하는 것이다.(해결 수단) 피(被)처리체를 승온하거나 또는 정온(定溫)에서 열처리하는 열처리 장치로서, 상기 피처리체를 수납하는 처리실과, 상기 처리실에 수납된 상기 피처리체를 가열하기 위한 가열부와, 미리 작성된 2개 또는 그 이상의 온도 제어 모델을 기억하는 기억부와, 상기 가열부의 온도를 제어하는 온도 제어부와, 상기 온도 제어부 및 상기 기억부를 제어하는 장치 제어부를 갖고, 상기 장치 제어부는, 소망하는 열처리 조건에 따라서, 상기

대표청구항

피(被)처리체를 승온, 강온 또는 정온(定溫)에서 열처리하는 열처리 장치로서,상기 피처리체를 수납하는 처리실과,상기 처리실에 수납된 상기 피처리체를 가열하기 위한 가열부와,미리 작성된 복수의 온도 제어 모델을 기억하는 기억부와,상기 가열부의 온도를 제어하는 온도 제어부와,상기 온도 제어부 및 상기 기억부를 제어하는 장치 제어부를 갖고,상기 장치 제어부는, 상기 열처리시의 조건에 따라서, 상기 복수의 온도 제어 모델로부터 상기 열처리의 도중에 선택적으로 전환하여 적용될 2개 또는 그 이상의 온도 제어 모델을 선정하고,상기 온도 제어부

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS | NAKANO MINORU, TANAKA KAZUO, UENO MASAAKI, YOKOGAWA KAZUHIRO
  2. [일본] BATCH TYPE HEAT TREATMENT EQUIPMENT AND ITS CONTROL METHOD | SUZUKI FUJIO, O BUNRYO, SAKAMOTO KOICHI, YASUHARA MOYURU

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 고압가스 기반의 반도체기판 열처리를 위한 온도제어장치 | 류재익, 신철희, 임근영, 오동엽, 이우영
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