[특허]전자파 흡수를 위한 그래핀―자성금속 복합체 및 이의 제조방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01F-001/09 C01B-031/02 B82B-003/00
출원번호	10-2013-0015845 (2013-02-14)
공개번호	10-2014-0102480 (2014-08-22)
등록번호	10-1467993-0000 (2014-11-26)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020130015845
발명자 / 주소	이상복 / 경남 김해시 팔판로 , 동 *호 (관동동, 팔판마을단지푸르지오) 이진우 / 경남 창원시 성산구 가음정로번길 , A동 *호 (가음동, 효성기계아파트) 정병문 / 서울 강서구 허준로 , *동 호 (가양동, 가양단지아파트) 이상관 / 경남 창원시 의창구 용지로 *, 동 *호 (용호동, 롯데아파트) 성동기 / 경기 성남시 분당구 서현로 , 동 호 (이매동, 이매촌금강아파트) 엄문광 / 경남 창원시 성산구 동산로 , 동 **호 (상남동, 대동아파트)
출원인 / 주소	한국기계연구원 / 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
대리인 / 주소	이원희
심사청구여부	있음 (2013-02-14)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명은 전자파 흡수를 위한 그래핀―자성금속 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 환원된 그래핀 옥사이드(Reduced Graphene Oxide, RGO) 표면에 판상의 결정형 자성금속입자가 결합된 전자파 흡수를 위한 그래핀-자성금속 복합체 및 이의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 전자파 흡수를 위한 그래핀―자성금속 복합체는 환원된 그래핀 옥사이드 표면에 나노스케일의 판상구조인 자성금속입자를 결합시킴으로서 저주파수에서 높은 주파수까지의 넓은 광대역에서 투자율을 유지할 수 있으며, 그래핀과의 하이브리드화를 통해

본 발명은 전자파 흡수를 위한 그래핀―자성금속 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 환원된 그래핀 옥사이드(Reduced Graphene Oxide, RGO) 표면에 판상의 결정형 자성금속입자가 결합된 전자파 흡수를 위한 그래핀-자성금속 복합체 및 이의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 전자파 흡수를 위한 그래핀―자성금속 복합체는 환원된 그래핀 옥사이드 표면에 나노스케일의 판상구조인 자성금속입자를 결합시킴으로서 저주파수에서 높은 주파수까지의 넓은 광대역에서 투자율을 유지할 수 있으며, 그래핀과의 하이브리드화를 통해 유전율을 제어할 수 있기 때문에 우수한 전자파 흡수능을 나타낼 수 있는 효과가 있다.

대표청구항

환원된 그래핀 옥사이드(Reduced Graphene Oxide, RGO) 표면에 판상의 결정형 자성금속입자가 결합된 전자파 흡수를 위한 그래핀-자성금속 복합체.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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