최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2013-0026033 (2013-03-12) | |
공개번호 | 10-2014-0111756 (2014-09-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130026033 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2013-03-12) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 세정폐수 중의 질소제거를 위한 최적 공정에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 세정폐수 중, 처리대상 물질인 SC-1(Standard Clean 1)계 폐수의 주요 구성 성분인 NH4OH, H2O2, Citric Acid의 효율적인 처리공정에 관한 것이다.SC-1(Standard Clean 1)계 폐수는 DI(deionized water): NH4OH : H2O2 = 13: 1: 1의 비율로 혼합된 친수성 물질이라서 화학적으로 분리가 불가능하다. 이중 NH4OH는 T-N의 절대적 원인물질로서 이 T-N의 근본적인
고농도 질소를 함유한 반도체 세정폐수를 고효율 처리하고자, 무산소조를 설치하고, 폭기조와 침전조와의 반송라인을 구축하여 MLSS농도를 3,500±50ppm을 유지하는 단계와;
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.