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은경막 및 이의 형성방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-030/00
  • C23C-026/00
출원번호 10-2013-0033730 (2013-03-28)
공개번호 10-2014-0118214 (2014-10-08)
DOI http://doi.org/10.8080/1020130033730
발명자 / 주소
  • 이광필 / 경기도 수원시 영통구 인계로 *** 주공*단지아파트 ***동 ***호
  • 이호연 / 경기도 광명시 모세로 ** 철산주공아파트 ***동 ***호
  • 이정수 / 경기도 수원시 장안구 만석로 ** 비단마을 현대성우우방아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
  • (주)이오젠 / 경상북도 구미시 *공단로 ***, 디동 (공단동)
대리인 / 주소
  • 이건주; 김정훈
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

본 개시는 은경막에 있어서, 100nm 이하 크기를 가지는 은 입자 및 은 입자와 결합되는 금속첨가물을 포함하고, 은경막은 상기 은 입자와 금속첨가물의 입자가 100nm 이상으로 결합된 크기로 도포되어 형성될 수 있다. 또한, 은경막을 형성하는 방법에 있어서, 질산은과, 질산은에 혼합된 금속첨가제 및 질산은과, 금속첨가제가 혼합된 제1제와 반응하여 질산은에서 은 입자를 분리하는 환원제를 포함하며, 은 입자와 상기 금속첨가제가 서로 결합되어 100nm 이상의 크기로 도포되어 상기 은경막을 형성할 수 있다.

대표청구항

은경막에 있어서, 100nm 이하 크기를 가지는 은 입자; 및 상기 은 입자와 결합되는 금속첨가물을 포함하고, 상기 은경막은 상기 은 입자와 상기 금속첨가물의 입자가 100nm 이상으로 결합된 크기로 도포되어 형성되는 것을 특징으로 하는 은경막.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [일본] PLASTIC MIRROR AND ITS MANUFACTURE | NAKAJIMA TETSUTO, MOGI MASAKATSU, OKADA MASAKI, TSUNEMATSU HIRONAKA
  2. [한국] 나노 금속성 은의 비전해 침착방법 및 이에 따라 나노 금속성 은이 침착된 기판 | 김시석, 김시두, 이성욱, 황제연
  3. [한국] 고광택 알루미늄휠의 제조방법 | 정광춘, 조현남, 엄성용
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