IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-2013-0046589
(2013-04-26)
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공개번호 |
10-2013-0121750
(2013-11-06)
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등록번호 |
10-1688260-0000
(2016-12-14)
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우선권정보 |
일본(JP) JP-P-2012-103332 (2012-04-27) |
DOI |
http://doi.org/10.8080/1020130046589
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발명자
/ 주소 |
- 오기하라, 츠또무
/ 일본 니가따껭 죠에쯔시 구비끼꾸 니시후꾸시마 **-* 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 신기노 자이료 기쥬쯔 겡뀨쇼 내
- 하따께야마, 준
/ 일본 니가따껭 죠에쯔시 구비끼꾸 니시후꾸시마 **-* 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 신기노 자이료 기쥬쯔 겡뀨쇼 내
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출원인 / 주소 |
- 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 |
있음 (2015-06-23) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
등록 |
초록
▼
본 발명의 종래의 자기 조직화 중합체에서는 어려운, 균일성이나 규칙성이 우수한, 자기 조직화에 의해 형성되는 마이크로 도메인 구조의 패턴을 얻는 것을 목적으로 한다.본 발명의 자기 조직화를 이용한 패턴 형성 방법은 자기 조직화를 이용한 패턴 형성 방법으로서, 산불안정기로 치환된 유기기를 치환기로서 갖는 규소 함유막 형성용 조성물을 피가공 기판 상에 도포하여 규소 함유막을 형성하는 공정, 상기 규소 함유막 상에 포토레지스트막을 형성하는 공정, 상기 포토레지스트막에 대하여 패턴을 노광하는 공정, 상기 포토레지스트막을 박리하는 공정, 상
본 발명의 종래의 자기 조직화 중합체에서는 어려운, 균일성이나 규칙성이 우수한, 자기 조직화에 의해 형성되는 마이크로 도메인 구조의 패턴을 얻는 것을 목적으로 한다.본 발명의 자기 조직화를 이용한 패턴 형성 방법은 자기 조직화를 이용한 패턴 형성 방법으로서, 산불안정기로 치환된 유기기를 치환기로서 갖는 규소 함유막 형성용 조성물을 피가공 기판 상에 도포하여 규소 함유막을 형성하는 공정, 상기 규소 함유막 상에 포토레지스트막을 형성하는 공정, 상기 포토레지스트막에 대하여 패턴을 노광하는 공정, 상기 포토레지스트막을 박리하는 공정, 상기 규소 함유막 상에 자기 조직화가 가능한 중합체막을 형성하는 공정, 상기 중합체막에 마이크로 도메인 구조를 형성하는 공정, 상기 중합체막에 패턴을 형성하는 공정, 상기 중합체막의 패턴을 마스크로 하여 상기 규소 함유막에 패턴 전사하는 공정, 및 상기 규소 함유막에 전사된 패턴을 마스크로 하여 상기 피가공 기판에 패턴 전사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
대표청구항
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자기 조직화를 이용한 패턴의 형성 방법으로서,산불안정기로 치환된 수산기 또는 산불안정기로 치환된 카르복실기를 포함하는 유기기를 치환기로서 갖는 규소 함유 화합물을 함유하는 폴리실록산을 주쇄로 하는 규소 함유막 형성용 조성물을, 피가공 기판 상에 도포, 가열하여 규소 함유막을 형성하는 공정,상기 규소 함유막 상에 포토레지스트를 도포 가열하여 포토레지스트막을 형성하는 공정,상기 포토레지스트막에 대하여 ArF, KrF, EUV 또는 EB로 패턴을 노광, 가열 처리하는 공정,상기 포토레지스트막을 박리액을 이용하여 박리하는 공정,자기 조직화
자기 조직화를 이용한 패턴의 형성 방법으로서,산불안정기로 치환된 수산기 또는 산불안정기로 치환된 카르복실기를 포함하는 유기기를 치환기로서 갖는 규소 함유 화합물을 함유하는 폴리실록산을 주쇄로 하는 규소 함유막 형성용 조성물을, 피가공 기판 상에 도포, 가열하여 규소 함유막을 형성하는 공정,상기 규소 함유막 상에 포토레지스트를 도포 가열하여 포토레지스트막을 형성하는 공정,상기 포토레지스트막에 대하여 ArF, KrF, EUV 또는 EB로 패턴을 노광, 가열 처리하는 공정,상기 포토레지스트막을 박리액을 이용하여 박리하는 공정,자기 조직화가 가능한 중합체를 상기 포토레지스트막을 박리한 후의 상기 규소 함유막 상에 도포하여 중합체막을 형성하는 공정,상기 중합체막을 가열 처리에 의해 자기 조직화하여 마이크로 도메인 구조를 형성하는 공정,상기 마이크로 도메인 구조를 형성한 중합체막을 드라이 에칭함으로써 패턴을 형성하는 공정,상기 중합체막의 패턴을 마스크로 하여 드라이 에칭에 의해 상기 규소 함유막에 패턴 전사하는 공정, 및상기 규소 함유막에 전사된 패턴을 마스크로 하여 드라이 에칭에 의해 상기 피가공 기판에 패턴 전사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 조직화를 이용한 패턴 형성 방법.
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